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安宁有用真空高温烘箱
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安宁有用真空高温烘箱

真空高温烘箱的必要性:
在半导体消费工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大少数光刻胶是疏水的,而硅片外貌的羟基和残留的水分子是亲水的,这形成光刻胶和硅片的黏合性较差,特别是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的衔接处,随便形成漂条、浮胶等,招致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀随便发作侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片外貌后,经烘箱加温可反响生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片外貌由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

真空高温烘箱普通任务流程:
首先确定任务温度。模范的预处置顺序为:翻开真空泵抽真空,待腔内真牢度抵达某一高真空度后,扫尾充人氮气,充抵抵达某低真空度后,冉次停止抽真空、充入氮气的历程,抵达设定的充入氮气次数后,扫尾坚持一段时间,使硅片充沛受热,增加硅片外貌的水分。然后再次扫尾抽真空,充入HMDS气体,在抵达设定时间后,中止充入HMDS药液,进入坚持阶段,使硅片充沛与HMDS反响。当抵达设定的坚持时间后,再次扫尾抽真空。充入氮气,完成整个作业历程。HMDS与硅片反响机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片外貌的水分,然后HMDS与外貌的OH一反响,在硅片表而生成硅醚,消弭氢键作,从而极性外貌变成非极性外貌。整个反响持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反响。
尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到公用废气搜集管道。在无公用废气搜集管道时需做专门处置。

真空高温烘箱特性:
美观耐用性:内采用SUS不锈钢,外采用A3钢板,喷塑处置;       
运用安宁性:加厚的保温层,优秀的保温功用,隔热、节能效果清楚;     
操纵动摇性:智能微电脑操纵仪表,数字显示,控温精度高、准确;      
高功用:巧妙的风道方案,温度平均度高;    
有用性:强力门扣加特制的密封材质,确保箱内密封效果优秀;     
牢靠性:完善的安宁维护装置,适宜临时陆续运转。

真空高温烘箱箱体结构:
1)本设备由室体、真空系统、维护系统、电气操纵系统等组成
2)箱体采用先进的机械设备制造、工艺先进、线条流利,美观小气
3)内箱材质为3mm厚优质不锈钢拉丝板经抛光处置,增强胫停止加固。外箱材质为1.2mm厚优质冷轧钢板经外貌特别处置后静电喷涂而成。
4)门与门框之间采用高功用密封原料及奇特的硅橡胶密封结构,密封、抗老化性好。
5)箱内设有不锈钢运动样品架,可装配易清洗。

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